微納工藝工程師

面議

學(xué)歷要求：碩士及以上
工作經(jīng)驗(yàn)：不限
更新時(shí)間： 2026-04-11

招聘人數(shù)： 2
招聘對象：應(yīng)屆畢業(yè)生
工作地區(qū)：

24893952 招聘經(jīng)理

1、對微納制造方法、設(shè)備領(lǐng)域的特定課題進(jìn)行調(diào)研和學(xué)習(xí)，掌握科研和行業(yè)的基本進(jìn)展。
2、負(fù)責(zé)微納光學(xué)器件模板工藝技術(shù)開發(fā)和實(shí)現(xiàn)，負(fù)責(zé)相關(guān)設(shè)備、材料、工藝方法的優(yōu)化提升。
3、協(xié)助納米壓印與后道工藝優(yōu)化。
4、與不同專業(yè)同事一起分析復(fù)雜的系統(tǒng)問題，提出創(chuàng)新且可行的技術(shù)方案。
5、其他與微納制造相關(guān)的工藝/設(shè)備/模組開發(fā)工作。
1、碩士學(xué)歷，精密儀器、電子、光學(xué)、機(jī)械、物理、微電子等相關(guān)專業(yè)；
2、熟悉一項(xiàng)或多項(xiàng)半導(dǎo)體微納米加工工藝，包括納米壓印、刻蝕、鍍膜、光刻等工藝者優(yōu)先；
3、熟悉光波導(dǎo)或DOE或超表面等微納光學(xué)器件工藝者優(yōu)先，熟悉微納光學(xué)器件加工工藝經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先；
4、熟悉一項(xiàng)或多項(xiàng)半導(dǎo)體微納米加工工藝，包括刻蝕、鍍膜、光刻、納米壓印等工藝；
5、熟悉刻蝕工藝者優(yōu)先，熟悉ICP刻蝕或離子束刻蝕設(shè)備操作與基礎(chǔ)工藝者優(yōu)先；
6、思維清晰，具有分析、判斷、解決問題的能力，具備較強(qiáng)的計(jì)劃性和執(zhí)行能力；
7、具有很強(qiáng)的學(xué)習(xí)力，邏輯思路清晰，自我內(nèi)驅(qū)力強(qiáng)，目標(biāo)結(jié)果導(dǎo)向，執(zhí)行力與抗壓能力強(qiáng)；
8、具有較強(qiáng)的團(tuán)隊(duì)協(xié)作精神與溝通協(xié)調(diào)能力。具備較強(qiáng)責(zé)任心和敬業(yè)精神。

職位類別：半導(dǎo)體技術(shù)

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